[반도체] 노광 공정
노광(Exposure)은 ‘물질을 빛에 노출시킨다’는 개념으로, 디스플레이에서 픽셀의 스위치 역할을 하는 TFT(박막트랜지스터)를 만들 때 사용하는 포토리소그래피(Photolithography) 공정의 일부다. 노광 공정은 사진 촬영을 위해 카메라에서 셔터를 열어 외부의 빛이 들어오게 해, 필름에 화학적 변화를 일으켜 상이 맺히게 하는 원리와 유사하다. 반도체 노광장비는 네덜란드 ASML이 만들고 있고, 반도체 공정의 40%를 차지하고 있다.(식각 30%, 증착25%) 반도체 미세화 추세에 따라 EUV 장비를 사용하면서 노광 공정 단가가 높아지고 있고 EUV장비가 ArFi 장비보다 2~3배 비싸다. 기존에는 시스템 반도체에만 EUV장비를 쓰다가 이제는 D램에서도 사용하게 되었는데 DDR5에서는 활용도가 ..