만 시간의 법칙

https://www.etnews.com/20200716000169 테스, 반도체용 차세대 초임계 세정장비 개발 '스타트'…세계 첫 시도 토종 반도체 장비업체 테스가 차세대 초임계 세정장비 개발을 시작한다. 습식 세정 이후 웨이퍼 건조를 위해 활용된 초임계 세정 장비를 업그레이드한다. 모든 세정 과정을 건식으로만 할 수 있 www.etnews.com (2020.07.16.) https://www.thelec.kr/news/articleView.html?idxno=4739 테스, 삼성 파운드리 GPE 장비 데모 테스트 통과 - 전자부품 전문 미디어 디일렉 메모리 고객사만 보유하고 있던 반도체 장비 업체 테스가 비(非) 메모리 파운드리 분야로 외연을 확대한다.16일 업계에 따르면 테스는 최근 삼성전자 파운드..

1. 개요 당사의 명칭은 주식회사 테스이고 영문명은 TES Co., Ltd.이고 약식으로는 (주)테스라고 표기한다. 2002년 9월 19일에 설립되었으며, 2008년 5월 20일 코스닥시장에 상장되었다. 소재지는 경기도 용인시 처인구 양지면 중부대로 2374-36이고 중견기업에 속한다. 2. 사업의 개요 당사는 반도체 소자 생산에 필요한 전공정 장비 제조를 주력사업으로 영위하며 반도체 장비 관련 매출이 전체 매출의 95% 이상을 차지하고 있다. 반도체 공정은 크게 웨이퍼를 가공하여 칩을 만드는 전(前)공정과 만들어진 칩을 조립하고 검사하는 후(後)공정으로 나눌 수 있으며, 당사는 전공정 중에서 박막 형성을 위해 사용되는 증착장비인 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Depo..

1. 사업 개요 반도체 소자 생산에 필요한 전공정 장비 제조를 주력사업으로 영위하며 반도체 장비 관련 매출이 전체 매출의 95% 이상을 차지하고 있다. 반도체 공정은 크게 웨이퍼를 가공하여 칩을 만드는 전(前)공정과 만들어진 칩을 조립하고 검사하는 후(後)공정으로 나눌 수 있으며, 전공정 중에서 박막 형성을 위해 사용되는 증착장비인 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)와 건식식각장비인 Gas Phase Etch & Cleaning 장비를 생산하여 국내 반도체 소자 업체에 공급하고 있다. 그 외에도 디스플레이 제조에 사용되는 박막봉지장비(Thin Film Encapsulation system)와 UVC LED용 웨이퍼 제작에 사용되는 MOCVD(Metal ..